國科會毫微米元件實驗室==何時建造?

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NDL的歷史沿革 國家奈米元件實驗室（National Nano Device Laboratories

簡稱NDL）於1988年8月5日奉行政院核准成立

最初的單位名稱為「國家次微米元件實驗室」。

成立的宗旨包括：(一)培訓 國內半導體專業人才；(二)協助國內學術界進行半導體材料、製程與元件的研究。

1992年8月本實驗室完成了十級潔淨度的6吋矽晶圓製程設施的建造

使之 具有次微米的技術模組

並隨即開放提供學術界進行半導體材料及元件的研發。

後為與工研院電子所的次微米製程計畫達到分工合作的效果

於1993年6月28日將名稱更改為「國家毫微米元件實驗室」；而為避免造成外界混淆不清與誤解

於2002年3月26日再度函報行政院

更名為「國家奈米元件實驗室」。

自1988年NDL成立以來

訓練的碩博士研究生人數逐年增長

近年已達每年約 1

200名

已是將原有空間及人力做最有效的利用。

為擴大研發效能

本實驗室於2001年1月正式開始執行新建實驗大樓計畫；而為配合政府南北平衡的政 策

同年9月19日亦在南部科學園區正式成立啟用南區辦公室。

新建大樓則於2004年6月30日開幕

並於同年12月6日完成搬遷

目前所有行政作業已於 新奈米電子研究大樓運轉。

NDL現位於新竹市科學工業園區旁

與其它八大國家實驗室一起自2003年6月改隸財團法人國家實驗研究院（National Applied Research Laboratories

簡稱NARL）。

參考資料 http://www.ndl.org.tw/new/chinese/1-1-2.php

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